纳米薄膜是信息产业中至关重要的基础性功能材料。本实验室针对工业生产中纳米薄膜高效精准测量难题展开了深入研究。2020年，实验室发展了高性能反射光谱技术，在全覆盖条件下的纳米薄膜厚度测量和多层同质异掺杂纳米薄膜厚度测量两个测量需求上取得突破，研究成果先后在Optics Letters和Optics Express发表。

文章信息：

1. C.G. Hu, H. Wang, Y.T. Shen, S.C. Huo*, W.F. Shen, X.D. Hu, X.T. Hu.Imaging layer thickness of large-area graphene using reference-aided optical differential reflection technique. Opt. Lett., 2020, 45(15): 4136-4139.

2. S.C.Huo, H. Wang, C.G. Hu*, C.Y. Yao, W.F. Shen, X.D. Hu, X.T. Hu.Measuring the Multilayer Silicon based Microstructure Using Differential Reflectance Spectroscopy. Optics Express, 2021, 29(3): 3114-3122.